技术编号：3415533
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种平面靶装置，尤其涉及一种镀膜用平面靶装置。 背景技术目前生产镀膜玻璃的设备中大多采用平面溅射阴极靶材，其工作原理是将需镀膜的玻璃送入真空镀膜室内，真空镀膜室内通入一定量的高纯工艺气体一如氧气、氮气或氩气，在电磁场及游离电子的作用下工艺气体形成带正电的等离子体，等离子体在载有高负电压的阴极的吸引下，在磁场的控制下，按照一定的轨迹和力度轰击固定安装在真空镀膜室内的平面阴极靶材上的镀膜用材料，镀膜材料被气体分子碰撞出来，按照一定方向沉积在玻璃上形成...
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