技术编号:3417828
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及化学气相沉积,特别涉及一种化学气相沉积装置。背景技术化学气相沉积(Chemical vapor deposition,简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术, 其通过化学气相沉积装置得以实现。具体地,CVD装置通过进气装置将反应气体通入反应室中,并控制反应室的压强、温度等反应条件,使得反应气体发生反应,从而完成沉积工艺步骤。为了沉积所需薄膜,一般需要向反应室中通入多种不同的...
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