技术编号:3418651
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及GaN基板。背景技术作为磁头滑块的研磨方法,已知例如有专利文献l所载的方法。另外, 作为用于研磨磁头滑块的研磨液,已知例如有专利文献2所载的精研磨用 精研油组成物。而作为非磁头滑块的GaN基板(氮化镓基板)的研磨方法,已知例如有 非专利文献l所载的方法。在此方法中,利用粒径为O.l nm的金刚石研磨 膏与仿鹿皮型垫研磨GaN基板后,利用KOH与NaOH的混合液化学地研磨 GaN基板。另外,作为另一GaN基板的研磨方法,己知例如有专利文献3所载的 ...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。