技术编号:3418733
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及蚀刻工艺,特别涉及一种真空镀膜镀层基片局部蚀刻工艺。背景技术随着真空镀膜技术及镀膜之后对基材表面加工技术的发展,用户对真空镀膜产品颜色的要求越来越高,真空镀膜是在真空中把金属、合金或化学物进行蒸发(或溅射),使其沉积在被涂覆的物体(称基片)上。然而,单靠油墨本身的颜色效果是无法达到要求的,于是依靠真空镀膜,再通过油墨遮盖达到颜色要求,受到越来越多客户的追捧。随着真空镀膜的普及,用户的要求也越来越高,逐渐出现了产品局部区域无镀层(如单件产品有两处透...
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