技术编号:3419624
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种射流抛光装置,属于超光滑表面抛光及光学加工。背景技术纳米胶体射流抛光是一种可以实现原子级材料的去除的抛光方法,主要 通过给工件表面施加能量,使表面微凸起部位的原子获得足够的能量而从表 面逃逸或脱落,从而实现原子级材料的去除。由于表面凸起部分的原子受束 缚较少,去除这类原子需要的能量也比去除本体相原子要小。因此,在加工 过程中若能控制作用到表面原子的能量,使该能量大于表面原子的结合能, 并小于本体相原子的结合能,便可以达到去除表面原子又不造成本...
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