技术编号:3420063
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于一种制造阵列波导光栅器件的方法及装置,其利用离子束溅射或高密度等离子体(SHDP,super high density plasma)镀覆,并通过四步骤制作阵列波导光栅(AWG,Arrayed WaveGuide),从而消除传统化学环境污染。背景技术已知阵列波导光栅器件是采用热氧化、金属有机化学气相沉积(MOCVD,Metal Organic Chemical Vapor Deposition)和等离子体增强型化学气相沉积(PECVD,Plas...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。