技术编号:3420354
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种改进的高速溅射靶的制备方法,尤其涉及一种具有高电导率的含有亚化学计量二氧化钛的,用于大功率D.C.溅射的溅射靶的制备方法。通常用各种氧化物(如二氧化硅)和氮化物(如氮化硅)的溅射涂层在多种衬底上形成具有重要特性的光学涂层。已知这种光学涂层的应用场合包括玻璃窗上的低辐射率膜,反射镜上的冷反射镜,镜框玻璃或TV屏幕上照相版和防反射涂层的增强镜。通常这些涂层都是由几种不同反射指数的不同涂层叠加而成,优选地将高低反射指数的涂层相结合,生产滤光片。对于...
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