技术编号:3420437
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种抛光设备,它使用电介质研磨粒对工件进行抛光。该研磨粒位于穿过电极加电压时产生的库仑力施加加工压力的位置上。背景技术 人们已经建议过具有各种结构的抛光设备。通常,抛光设备有一抛光垫以固定粘在面板上的研磨粒,通过面板与工件的彼此相对运动而实现抛光。近年来,对工作流体的研究已经取得了进展,这种流体对电场或磁场有反应,有的抛光设备使用了这种工作流体。例如,在抛光和表面精整这类加工中,已经使用了磁性流体,它含有弥散埃级的磁粒。这种流体单独使用时,几乎没...
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