技术编号:3420640
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动 的脉宽调制叠加调幅的PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子镀设备,用以改善 弧斑的放电形式,控制弧斑的运动,提高靶材刻蚀均匀性,减少或抑制靶材大颗 粒的发射,用以制备髙质量的薄膜。背景技术电弧离子镀是工业镀膜生产以及科学研究中最重要的技术之一,由于其结构 简单,离化率高(70%-80%),入射粒子能量高,绕射性好,可实现低温沉积等 一系列优点,使电弧离子镀技术得到快速发展并获得广泛应用,展示...
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