技术编号:3421013
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空镀膜设备,更具体地说是一种矩形平面磁控溅射阴极。背景技术矩形平面磁控溅射阴极是目前大面积真空镀膜的重要设备之一。实用新型专利 《LINEAR PLANAR-MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS WITH RECIPROCATING MAGNET-ARRAY》 (实用新型人David E. Stevenson,美国专利,专利号5328585)介绍了一种矩形平面磁控 溅射阴极,该阴极具有目前工业中矩形平面磁控溅射阴极的...
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