技术编号：3424366
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型是应用于半导体制程中刻蚀部^H十对多种化学药液再回收利用的 技术，具体为一种多种化学品药液分离、重复使用装置。背景技术以槽式刻蚀为代表的传统湿法刻蚀，刻蚀精度很难控制，由于溶剂微粒的沾 污而导致高的缺陷水平，不能用于大直径小特征的晶圆加工。而单片刻蚀可以避 免溶剂微粒的沾污，却会产生大量的化学废液，在化学品回收利用方面是个空白。实用新型内容为实现化学品的重复使用，本实用新型的目的在于提供一种多种化学品药液 分离、重复使用装置，可将多种化学药液分离...
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