技术编号:3424944
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种薄膜传送装置和巻绕式真空成膜方法,其可一边 在真空环境中连续移送基膜并对被传送的上述基膜进行成膜处理、 加热处理或等离子处理等, 一边连续巻收经过处理的该基膜。背景技术人们公知现有技术中的如下 一种巻绕式真空蒸镀方法(例如参照下述专利文献1 ) 一边将从巻放辊上连续移送过来的长条状的基膜 巻绕到冷却辊上, 一 边将来自设置在该冷却辊对面位置的蒸发源中 的蒸镀物质蒸镀到基膜上,蒸镀后的基膜则被巻收到巻收辊上。图5是表示这种现有技术中的巻绕式真空...
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