技术编号:3425748
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在基板上形成金属氧化膜的金属氧化膜的成膜方法以及可实施该金属氧化膜的成膜方法的金属氧化膜的成膜装置。背景技术在太阳能电池、发光器件、触摸屏等领域内,在基板上形成金属氧化膜。以往,作为将金属氧化膜形成在基板上的技术,有专利文献1、2、3。专利文献1的技术是通过使溶解有金属盐或金属络合物的溶液与经加热的基板接触,从而在基板上形成金属氧化膜。这里,该溶液中含有氧化剂和还原剂中的至少一方。专利文献2的技术是将添加有过氧化氢作为氧化剂的四丁基锡或四氯化锡溶...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。