技术编号：3427924
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种离子注入机上双法拉第杯测量校正系统及校正方法，特别地涉及 离子注入机，属于半导体器件制造领域。背景技术离子束注入机是半导体器件制造中最关键的掺杂设备之一。随着半导体器件制造 的集成度向片上系统规模发展，用于器件制造的晶圆片朝着300mm以上尺寸扩展，而单元 器件尺寸则朝微纳米细线条减缩，特别是片上晶体管、场效应管尺寸的减缩，对离子束注入 掺杂技术提出了很明显的挑战。当半导体集成电路器件制造向65nm技术节点迈进，其单 元场效应管需生成超浅结源...
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