技术编号:3428174
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及新材料及表面,尤其涉及化合物薄膜与 多层膜材料的磁控溅射装置。 背景技术二维伸展的薄膜因具有特殊的成分、结构和尺寸效应而使其 获得三维材料所没有的性能,同时又很节约材料,所以非常重要。 例如集成电路、集成光路、磁泡等高密度集成器件,只有利用薄膜 及其具有的性质才能设计、制造。又如大面积廉价太阳电池以及许多重要的光电子器件,只有以薄膜的形式使用昂贵的半导体材料和 其他贵重材料,才使它们富有生命力。制备薄膜的方法很多,相应的镀膜设备类型也很多,例如真...
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