技术编号：34288
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利摘要本实用新型公开了一种新型精密调谐升降基台，精密调谐升降基台与反应腔体构成微波等离子反应腔，所述反应腔体底部固定在主基台上，位于所述主基台上套设有同轴间隙配合的大调谐基台和小调谐基台，其中所述小调谐基台位于反应腔体的中轴线上，所述大调谐基台与主基台间隙配合，本实用新型的一种新型精密调谐升降基台，带有两个调谐基台，并作密封处理，其次能够对微波等离子体反应腔进行精密调谐，使腔体内获得稳定的微波等离子放电，为微波等离子体反应腔内稳定的物理化学反应提供保障，最后不仅可以精密且快速地完成微波等离子体反应腔的调谐，从而获...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
该类技术注重原理思路，无完整电路图，适合研究学习。