技术编号：3433569
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及聚硅氮烷处理溶剂，适用于处理形成在基材上的 聚硅氮烷涂覆膜或聚硅氮烷膜或类似物，以及使用该溶剂处理聚 硅氮烷化合物或者聚硅氮烷涂覆膜的处理方法。更具体地，本发 明提供聚硅氮烷处理溶剂，和适用于除去边缘珠粒的处理方法， 其中聚硅氮烷涂覆膜在基底上形成之后，处理其边缘部分的涂覆 膜。背景技术公知硅质膜用作绝缘膜，电介质膜，保护膜，亲水膜等。这些硅质膜通过各种方法形成在基材上，例如PVD法(例如溅涂法)， CVD法，溶胶-凝胶法，和形成聚硅氧烷涂覆膜或...
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