技术编号：3433656
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。参考相关申请本申请要求享有提交于2005年8月3日的国际专利申请 PCT/CH2005/000458的优;^&，其内容同时包括在^申请中。絲领域才N^M，溪求1的前序，械明涉及一种臭fl^JL器，其包括两个电妙布 !^它们之间的电^h质层。背景技术根据专利DE3220018C2已知的臭IL^器，其包括两个管状电极和布M 它们之间的电介质层，如ith^T置以致在它们之间形成了作为臭氧化间隙的间隙， 通过该间隙可以运J^i含氧气体。臭氧化间隙的间隙宽度...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。