技术编号:34343199
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及异质外延金刚石膜材料领域,具体涉及一种提高大面积硅材料上金刚石形核均匀性的预处理装置。背景技术.大面积金刚石膜优异的光学性能、热学特性以及耐候性使其在托克马克、高功率激光器、热沉散热片等高新技术领域获得了良好的应用。在众多适用于大面积金刚石膜生长的技术中,金刚石异质形核的均匀性是决定金刚石生长质量及结构均匀性的关键。.目前,金刚石异质形核的主要预处理方法是机械研磨、超声形核和偏压形核。通过机械研磨的方法会在基片表面或亚表面上形成利于金刚石形核的微小的划痕缺陷,缺陷分布的均匀...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。