技术编号:3443900
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及硅烷的制备领域,更具体地说,涉及一种硅烷的制备装置。 背景技术硅烷,又名甲硅烷、四氢化硅,分子式SiH4, SiH4是强还原性物质,与氧化性物质、碱或重金属盐类溶液接触,会显示出很强的活泼性,属易燃、易爆的危险性气体。硅烷是生产单晶硅、多晶硅、非晶硅、金属硅化物、氮化硅、碳化硅、氧化硅等一系列硅化合物的基本原料,广泛应用电子及半导体工业中。现有硅烷的制备方法,通常以便宜易得的四氯化硅为原料,通过氢化、歧化、热分解、氢回收等工艺步骤,即UCC工...
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