技术编号:3446783
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及石墨烯的制备,具体而言,涉及。 背景技术石墨烯由于具有优异的物理和化学性能,在复合材料、纳米材料、场发射材料、储能材料等领域获得广泛应用,特别是在储能材料领域,被认为是最有前途的一种材料。制备石墨烯的方法很多,其中常见的有化学气相沉积法(CVD)。运用CVD法可在金属基体表面制备出高质量的单层石墨烯片,然后将其转移并贴敷到目标基体上,制备出石墨烯基纳米材料。这是应用最广泛的一种石墨烯薄膜材料制备方法,但它很难实现石墨烯块体材料的规模化生产。制备石...
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