技术编号:3448796
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本新型实用涉及多晶娃生产领域中采用CVD,即化学气相沉积(Chemical VaporDeposition)反应炉生产多晶硅的装置,具体是一种CVD反应炉产高位能蒸汽系统。背景技术多晶硅是单质硅的一种形态,在电子信息基础材料、太阳能电池等行业有着广泛的应用。多晶娃是生广单晶娃的原料。改良西门子法是目前主要的生产太阳能及电子级多晶硅的工业路线。方法是将工业级硅粉与氯化氢反应生成三氯氢硅,再让三氯氢硅在氢气氛围下在CVD反应炉中还原沉积得到多晶娃。 CVD还原...
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