技术编号:3449100
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及超高纯试剂提纯技术,具体涉及一种超净高纯氢氟酸的生产装置。背景技术超净高纯试剂是电子领域微细加工制作中不可缺少的关键性基础化工原料之一,主要用于芯片的清洗和蚀刻。超净高纯氢氟酸主要用于半导体行业紫外负性光刻胶的漂洗 工艺。随着电子领域技术的不断发展,对电子化学品的纯度要求也日益提高,为了达到漂洗紫外负性光刻胶且无残留的要求,需要提高所用漂洗试剂的净度和纯度。氟化氢的生产多采用间歇式生产工艺,生产效率低;现有技术中氟化氢被纯水吸收后所采用聚乙烯...
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