技术编号:3449101
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及超高纯试剂提纯技术,具体涉及一种超净高纯硫酸的提纯装置。背景技术超净高纯试剂是电子领域微细加工制作中不可缺少的关键性基础化工原料之一,主要用于芯片的清洗和蚀刻。超净高纯硫酸主要用于半导体行业紫外负性光刻胶的漂洗工艺。随着电子领域技术的不断发展,对电子化学品的纯度要求也日益提高,这就对紫外负性光刻胶的漂洗剂纯度和净度提出了更高的要求。目前普遍采用的超净高纯硫酸提纯工艺中需要使用大量的冷却水,冷凝装置和预热装置较多,设备占地面的较大,能耗多,且 ...
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