技术编号:3449644
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及多晶硅生产领域,具体涉及一种多晶硅还原生产装置。背景技术多晶硅制备是一个高耗能的产业,改进工艺降低生产成本成为各企业可持续发展的重点。目前多晶硅企业还原工序通常的生产流程如图1,高纯三氯氢硅(SiHCl3)进入汽化器被汽化后与高纯氢气(H2)进入混合器均匀混合后分别送入多个还原炉(还原炉1,还原炉2,还原炉3…),在还原炉内1100°C的高温硅芯上发生还原反应生成多晶硅,并将副产物还原尾气送入冷凝器。还原尾气被冷凝后,将冷凝液体SiHCl3和...
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