技术编号：34538382
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及光刻机技术领域，具体为一种光刻机光源头水冷组件。背景技术.光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，在光刻机使用时，通常需要特定的光源发射装置对硅片进行照射，在光源发射装置持续运行时，会产生大量的热，此时需要通过水冷组件进行散热。.传统的光刻机光源头水冷组件在使用时，通常直接将水冷组件固定在光刻机的光源发射装置后方，此时通过冷却液将光刻机的光源发射装置内的热量导出，实现散热，此...
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