技术编号:3454855
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及,具体地说,涉及用于制备抛光液的硅溶胶原料硅酸的纯化方法,属于化工。背景技术在化学机械抛光(CMP)中,所使用的抛光液是以硅溶胶中的二氧化硅胶体作为磨料,而二氧化硅胶体的纯度对抛光后的半导体材料性能影响很大。如果能降低传统工艺制备的硅溶胶中金属元素含量,主要是Ca、Mg、Al等,就可以避抛光过后的材料表面残留这些金属元素,从而避免因为这些金属元素而造成的一系列问题,提高产品合格率。在硅溶胶的合成过程中,如果原料中含有Ca、Mg、Al等高价金属元素...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。