技术编号:3455020
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了,将硅源和模板剂按一定比例溶于去离子水中,在搅拌的条件下缓慢滴加酸溶液至指定pH值,后移入水热反应釜中,在一定温度下静置晶化,晶化后经洗涤、过滤、干燥得超微孔二氧化硅前驱体粉末,煅烧后得到有序超微孔二氧化硅分子筛。本发明制各的超微孔二氧化硅具有比表面积大、孔容高、孔径高度有序的特点,合成工艺简单,生产成本低,适合大规模工业化生产。专利说明 [0001]本发明涉及无机多孔材料领域,具体是。 背景技术 [0002]1992年,Mobil公...
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