技术编号:3458205
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及ニ氧化硅颗粒的制备方法。 背景技术作为通过将湿式ニ氧化硅胶体溶液干燥而获得ニ氧化硅颗粒的方法,专利文献 JP-A-3-187913提出了ー种方法,其中向ニ氧化硅颗粒分散液中加入三甲基甲硅烷基化剂从而对ニ氧化硅表面进行三甲基甲硅烷基化处理,并且除去过量的处理剂,之后进行干燥。专利文献JP-A-2001-1948M提出了ー种方法,其中向亲水性ニ氧化硅颗粒分散液中加入硅氮烷化合物或单官能硅烷化合物,从而对ニ氧化硅颗粒表面进行三有机甲硅烷基化处理,之后进...
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