技术编号:3458212
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及,属于电子化学品生产。背景技术在电子工业中,高纯氨用作化学气相沉积氮化硅的氮源。在化工、科研等领域用作标准气,配制标准混合气、物性测定、催化剂评价等。高纯氨作为电子工业中氮化膜的成膜气体,已经在半导体、液晶面板、氮化镓系LED生产中得到广泛应用,在多晶硅太阳能电池领域的应用也在不断增加。随着中国电子工业的快速发展,高纯氨需求量急增。目前行业内的生产方法,步骤繁琐,频繁使用高温、高压等生产条件,对安全生产极为不利,产品纯度也达不到一定要求,转换率低...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。