技术编号:3459206
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是一种用于纳米材料的制备方法,具体说,涉及的是一种制备纳米晶SnO2粉的方法。背景技术 由于纳米晶氧化锡(SnO2)粒子具有比表面积大、表面活性高及与气体作用强等特点,因而具有特异的光电性能和气敏特性,被广泛地应用于气敏元件、半导体元件、电极材料及太阳能电池的光学透明薄膜上。国内外大都侧重于SnO2薄膜材料的制备,而对纳米晶SnO2超细粒子粉体单体材料的研制,文献报道较少。实验室较常采用制备高纯超细氧化锡的方法主要有以下几种(1)以五水四氯化锡为主要...
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