技术编号:3464867
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明要求于2009年10月16日提交的EP申请号09173332. 9的优先权,为所有目的将该申请的全部内容通过引用结合在此,本发明涉及一种高纯度氟气及其生产、一种生产氟气的装置、一种监测并且控制氟气中杂质的方法及其用途。背景技术氟气是一种不可缺少的碱性气体,并且因为其反应特性而在半导体行业中作为一种蚀刻气体或清洁气体用于制造光电池和液晶显示器的TFT(薄膜晶体管)。具体来说,在用于光学材料的金属氟化物退火用途中或作为准分子激光器的一种气体,氟的光学特性...
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