技术编号:3465840
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及蒙脱石有机改性的新工艺,更具体涉及阳离子-阴离子复合插层型有机蒙脱石及其制备方法。通过本发明提供的方法,采用阳离子和阴离子型表面活性剂来复合插层改性蒙脱石,能制得高层间距、高性能的有机蒙脱石。背景技术蒙脱石是一种含含水的层状铝硅酸盐矿物,由两个硅氧四面体中间夹一个氯铝 (镁)氧(氢氧)八面体组成,晶层间距为约0. 96nm,层间有可交换的Na+、Ca2+、Mg2+等阳离子,可以与其他阳离子进行交换。有机蒙脱石具有广泛用途,已被应用于润滑脂、油漆、...
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