技术编号:3470929
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开一种还原装置,用于收集高纯度的硅和/或有效地减少二氧化碳量。对氧化镁、氧化钾或氧化钙等第一氧化物与二氧化碳或一氧化硅等第二氧化物的混合物或化合物照射激光,从而使氧从所述第一氧化物或第二氧化物中脱离。专利说明还原装置[0001]本发明涉及一种还原装置,尤其涉及一种适于生成高纯度的硅并减少二氧化碳的还原装置。背景技术[0002]专利文献I中公开有本发明人提出的一种氢生成装置,所述氢生成装置高效地使用可再生的能量,并回收反应能量的同时生成氢气。该氢生成...
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