技术编号：3473387
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了以四氟化硅和氮气生产氮化硅和三氟化氮的设备和工艺，设备包括等离子体发生器、等离子体反应器、冷却室、气固分离室、三氟化氮精制装置；等离子体发生器与等离子体反应器相连通，等离子体反应器的出料口与冷却室的进料口相连通，冷却室还设有低温氮气输入口，冷却室的出料口与气固分离室的进料口相连通，气固分离室的气相出料口与三氟化氮精制装置的进料口相连通，气固分离室的固相出料口为氮化硅排出口，三氟化氮精制装置设有三氟化氮排出口和废气排出口。本发明工艺路线新颖、合理...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。