技术编号:3479886
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是一种有机铂化合物,该有机铂化合物用于通过化学蒸镀法制造铂薄膜或铂化合物薄膜,其特征在于,是以下式表示的、由己二烯或己二烯衍生物以及烷基阴离子与2价的铂配位而成的有机铂化合物。下式中,作为取代基的R1、R2为烷基;R1、R2可以不同;此外,R3、R4为氢或烷基;R3、R4可以不同。本发明的铂化合物的稳定性良好,在成膜时不会产生有毒物质,因此处理性也良好,实用性优异。此外,其蒸气压高,能进行低温下的成膜,作为容易进行立体结构上的成膜的CVD原料有用。[...
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