技术编号:3489436
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种用于石墨烯形成的方法包括提供基底并使所述基底经受减压环境。所述方法还包括提供载气和碳源并且使所述基底的至少一部分暴露于所述载气和所述碳源。所述方法还包括在所述基底的所述至少一部分上进行表面处理工艺并且使所述碳源的一部分转变成布置在所述基底的所述至少一部分上的石墨烯。专利说明用于石墨烯形成的方法和系统[0001]相关申请的交叉引用[0002]本申请要求2012 年 2 月 24 日提交的题为 “Method for Forming Graphene at...
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