技术编号:3490868
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种含氘二氟甲氧桥衍生物及其制备方法与应用。该含氘二氟甲氧桥衍生物,其结构通式如式I所示。该类化合物具有化合物所必需的一般物理性质,对光,热稳定,较宽的向列相,与其他化合物相溶性好,尤其是此化合物具有低旋转粘度γ1和大介电各向异性(△ε)的特性。对于低旋转粘度γ1和高介电各向异性△ε的单体液晶化合物的开发具有重要意义。专利说明含氘二氟甲氧桥衍生物及其制备方法与应用[0001]本发明属于液晶化合物及应用领域,特别涉及含氘二氟甲氧桥衍生物及其制备方...
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