技术编号:3493993
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种具有防腐蚀功效的光刻胶去除剂,其原料包括防腐剂、有机胺化合物、有机溶剂、去离子水和C2~C15一元醇。该去除剂能够提供剥离性优异、安全,且不会腐蚀导电体的防腐蚀性优异。专利说明具有防腐蚀功效的去除剂 [0001] 本发明涉及光刻,尤其涉及一种光刻胶去除剂,其剥离性能优异,安全, 不会腐蚀导电体的防腐蚀性。 背景技术 [0002] 1C、LSI等集成电路,IXD、EL兀件等显不机器,打印基板等使用热刻蚀技术制造。 在该热刻蚀工序中,...
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