技术编号:3521702
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及不使用光气为起始原料制备碳酸二芳基酯方法。进一步本发明涉及从草酸二芳基酯。碳酸二芳基酯在工业中用于制备聚碳酸酯树脂。迄今,碳酸二芳基酯是由光气和芳族羟基化合物在碱存在下反应制备(见日本专利临时公开62(1987)-190146)。这个方法的缺点是需要使用有毒的光气和使用大量的碱。已知制备碳酸二芳基酯的另一种方法包括在催化剂存在下,碳酸二烷基酯和芳族羟基化合物之间的酯基转移(见日本专利公开56(1981)-42577和H1(1989)-5588)。...
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