技术编号：3530200
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对短波长光具有良好的透明性和耐久性的新的半透膜(pellicle)及新的含氟聚合物。背景技术 进行作为半导体装置或液晶显示板的制造工序的光刻处理(曝光处理)时，为了防止异物对光掩模或中间掩模(以下将它们称为掩模图案面)的附着，采用半透膜。半透膜是指用粘合剂将透明薄膜(以下称为半透膜的膜)设置于框体、在掩模图案面上以一定距离安装的光学元件。要求半透膜对用于曝光处理的光具备透明性、耐久性和机械强度。在半导体装置或液晶显示板的制造中，实施了配线和配线间...
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