技术编号：3547871
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。真空低温等离子体沉积假捻器摩擦盘技术是一种新的制作高速纺丝假捻变形加工用摩擦盘技术，属真空冷阴极弧光等离子体沉积技术。传统的国内外制作假捻器摩擦盘是采用高温高压等离子体喷射或真空等离子体喷射的方法，如美国专利US4051655A。这些方法材料浪费大、功耗大、需二次加工、设备投资大。本发明的目的是提供一种新的、利用沉积技术制作假捻器摩擦盘的方法，特别是一种真空低温等离子体沉积技术制造摩擦盘的方法。真空低温等离子体沉积技术是根据霍耳型端面结构的等离子体加速器的...
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