技术编号：3550439
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种酸发生剂、磺酸、磺酸衍生物和辐射敏感树脂。本发明尤其涉及适用于辐射敏感树脂组合物的光致酸发生剂，该组合物作为化学放大抗蚀剂用于使用多种类型辐照的微加工，所述的辐射是例如深紫外线，诸如KrF受激准分子激光、ArF受激准分子激光、F2受激准分子激光，或EUV(极远紫外光extreme ultraviolet)，X-射线，诸如同步辐射，或带电粒子射线，诸如电子束；还涉及由所述酸发生剂生成的磺酸、用作合成所述产酸剂的原料或中间体的磺酸衍生物、以及含有...
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