技术编号:3555863
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种制造六氟乙烷的方法及其用途。背景技术 使用六氟乙烷(CF3CF3)作为例如半导体的清洁或蚀刻气体。迄今为止已经知道多种制造CF3CF3的方法。其例子包括(1)在氟化催化剂的存在下用氟化氢将二氯四氟乙烷、一氯五氟乙烷或类似物氟化的方法,以及(2)用氟气直接将四氟乙烷和/或五氟乙烷氟化的方法。但是,例如,当采用上述(1)的方法时,在制得的CF3CF3中含有作为杂质的来自原材料中的化合物或通过该反应新制成的化合物。在这些杂质中,含氯化合物难以与CF...
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