技术编号:3559927
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及含氧杂环丁烷的化合物、包括该化合物的光致抗蚀剂组合 物、使用该光致抗蚀剂组合物制备图案的方法、以及喷墨打印头,该喷墨 打印头包括所述含氧杂环丁烷的化合物的聚合产物。背景技术在光刻中使用光致抗蚀剂来形成各种图案。光致抗蚀剂是用于获得对 应于被曝光图案的图像的光敏树脂,所述曝光图案取决于显影溶液的溶解性随曝光量的变化。光致抗蚀剂可分为两类正性光致抗蚀剂和负性光致 抗蚀剂。在正性光致抗蚀剂中,由于显影溶液被曝光区域的溶解性增大, 所以通过在显影过程中除...
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