技术编号:3563046
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及从鎿碱(onium hydroxide)和/或鑰盐溶液中除去诸如 铝的痕量金属离子的方法。背景技术鐵碱,例如四甲基铵碱,用于半导体加工处理中。此类鎗碱要求具 有极高的纯度。例如,关于铝离子的SEMI C46-0699 A见范要求25%的四曱 基铵碱中铝含量低于10十亿分率(ppb )。出于环境和经济的考虑驱使希望回收原料,包括诸如用在半导体加 工处理中的原料鑰碱。诸如鑰碱和鎿盐的原料是必须十分严格遵守环保 法规的对象。生产新的鎗碱和鑰盐比回收用过...
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