技术编号:356600
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本实用新型涉及日光温室。 背景技术目前半拱式日光温室的后墙、东西山墙多采用泥垛或砖石材料建造。为了抗伏 雨淋冲水泡,基础需要高出地面0. 5m。当墙体用砖砌时,内层砖墙24cm,中间保温夹层 12-20cm,外层砖墙厚24cm,这就使得墙体厚度在60-70cm左右;当用泥垛时,要用扬脚泥 垛,底宽1-1. 2m、顶宽0. Sm。因此造成土地使用率低,土壤结构破坏严重,夏季又易冲刷坍 塌,年年修复,建造工期长,并且墙体高度受限制,一般为1.8-2. 2m,不适合果树的栽培。同 时由于上述日光温室后墙顶部多设置...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。