技术编号：35696437
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及太阳能光伏单晶制造技术领域，具体涉及一种用于单晶炉副室的可变径清理装置。背景技术.在光伏单晶制造业里，单晶拉制过程中，副室是单晶硅棒冷却和暂时存放的单晶炉构件。单晶需在惰性气体如氩气环境才能稳定生长，氩气会通过副室流入到主室中，氩气携带着反应的挥发物顺着副室向下运动，挥发物在运动过程中会在副室内壁上产生沉积，而单晶的生长极度依赖高洁净的环境，若不及时清理，沉积的挥发物易在拉晶过程中落入坩埚内的硅料中，致使硅料受到污染，因此定期清理副室，保持单晶炉副室内部环境的清洁是保障晶体成晶质...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。