技术编号：3573152
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 各实施方式涉及。背景技术远紫外线(EUV)平版印刷术(光刻法，l他ography)使用具有例如13.5nm 波长的EUV光源，并被期望代替使用KrF准分子激光(248nm)和ArF准分子 激光(193nm)的较长波长的DUV平版印刷方法。然而，当EUV平板印刷方 法使用包括常规光致产酸剂的抗蚀剂材料进行时，由于通过EUV光源提供 的低剂量的酸，产酸效率和曝光速度低，由此使得难以获得期望的曝光灵敏 度。此外，常规光致产酸剂含有生色团，该生色团可分解以引起在...
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