技术编号:3580498
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及一种可用于微蚀刻领域的光刻胶组合物中的新型光活性化合物,和尤其可用于在半导体器件生产中使负性和正性图案成像的新型光活性化合物,以及光刻胶组合物和用于使光刻胶成像的方法。 背景技术 光刻胶组合物用于微蚀刻方法以比如在计算机芯片和集成电路制造中制造微型化电子元件。通常,在这些方法中,首先将光刻胶组合物的膜的薄涂层施涂于基材材料,例如用于制造集成电路的硅晶片上。然后烘焙该已涂覆的基材以蒸发该光刻胶组合物中的任何溶剂并将该涂层固定到该基材上。涂覆在...
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